特許
J-GLOBAL ID:200903005679968090

高周波加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-084790
公開番号(公開出願番号):特開2002-276949
出願日: 2001年03月23日
公開日(公表日): 2002年09月25日
要約:
【要約】【課題】 下方吸気方式の高周波加熱装置において、ユーザー使用条件の極端な場合でも、冷却性能を確保すること。【解決手段】 床面と直行する本体の部分に第二の吸気口16bを形成し、この第二の吸気口16bの近傍の底板16の形状を逆V字型にすることにより、ビニールシ-トのようなものが敷かれた場合でも、逆V字型部により床面に向ける力が働くため、底板16に吸い付かず、確実に第二の吸気口16bより低温の空気を吸気することができる。このように確実に低温の空気を取り込むことができるので、冷却が不十分になる事態を防止することができ部品の寿命や性能に悪影響を及ぼすことなくを未然に防ぐことができるものである。
請求項(抜粋):
前面に開口部を有し被加熱物を加熱する加熱室と高周波加熱装置本体を駆動する電気部品を有する機械室とを別々に設け、前記加熱室の下部に前記機械室を配した高周波加熱装置であって、前記機械室を電気部品を取り付ける電気部品取付板と装置本体の底面を構成する底板とにより構成し、前記機械室内には前記電気部品を冷却する送風装置を設け、高周波加熱装置の本体を設置する床面と対向する前記底板に設けた主たる吸気口と、本体の床面と直行する部分に設けられた第二の吸気口とを備え、前記第二の吸気口近傍の床面と対向する底板部分の形状を逆V字型に形成する構成とした高周波加熱装置。
IPC (3件):
F24C 7/02 541 ,  F24C 7/02 ,  F24C 7/02 501
FI (3件):
F24C 7/02 541 C ,  F24C 7/02 541 B ,  F24C 7/02 501 E
Fターム (7件):
3L086AA01 ,  3L086BA05 ,  3L086BE01 ,  3L086BE02 ,  3L086DA03 ,  3L086DA17 ,  3L086DA18

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