特許

J-GLOBAL ID：200903005680319577

洗浄剤組成物

発明者： 阪谷 武信 ,  岡野 知道
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-172406
公開番号（公開出願番号）：特開平7-003287
出願日： 1993年06月18日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：

【要約】【目的】 耐硬水性、分散性に優れ、再汚染防止効果を有し、しかも皮膚刺激性の低い洗浄剤組成物を提供する。【構成】 下記一般式(1)(化1)で表わされるスルホコハク酸誘導体を含有することを特徴とする衣類用、皮膚用等に適した洗浄剤組成物。【化1】{式中、R1、R2:炭素数8〜22のアルキル基又はアルケニル基A :炭素数2のアルキレン基M1、M2:水素原子、アルカリ金属、一価に相当するアルカリ土類金属、置換もしくは非置換のアンモニウム基Z :-O(X)O-基、又は-NR3(Y)NR3-基(但しX,Yは、それぞれ多価アルコール残基、多価アミン残基を、R3は水素又は低級アルキル基を表わす)}

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)(化1)で表わされるスルホコハク酸誘導体を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。【化1】{式中、R1、R2:炭素数8〜22のアルキル基又はアルケニル基A :炭素数2のアルキレン基M1、M2:水素原子、アルカリ金属、一価に相当するアルカリ土類金属、置換もしくは非置換のアンモニウム基Z :-O(X)O-基、又は-NR3(Y)NR3-基(但しX,Yは、それぞれ多価アルコール残基、多価アミン残基を、R3は水素又は低級アルキル基を表わす)}

IPC (5件)：

C11D 1/28 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  B23K 1/00 ,  C23G 5/02