特許

J-GLOBAL ID：200903005680543230

露光方法及び露光装置

発明者： 井上 壮一 ,  田中 聡 ,  藤澤 忠仁
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-354150
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201723
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【目的】 限界解像力をさらに向上させ、限界解像力を実質的にλ/2NAまで引き上げることのできる露光装置を提供すること。【構成】 X,Y方向に直交するパターンが形成されたマスク11を照明し、マスク11上のパターンを投影光学系13により被露光基板17上に投影露光する露光装置において、投影光学系13の瞳面の共役面に相当する照明光学系の面内に配置され、光軸からX方向にずれた位置及びY方向にずれた位置に夫々開口を有する遮光板6と、光軸からX方向にずれた位置に形成された開口を透過した光をY方向の直線偏光光に、光軸からY方向にずれた位置に形成された開口を透過した光をX方向の直線偏光光に規定する偏光部材7と、マスク11のX方向パターンに入射する光に対しX方向の直線偏光光のみを通し、Y方向パターンに入射する光に対しY方向の直線偏光光のみを通す偏光部材14とを備えたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

フォトマスクと投影光学系の瞳面の共役面に相当する照明光学系の面内において各々規定された光軸を原点とするXY座標系の方向が光学的に一致し、X方向に長いパターンとY方向に長いパターンが形成された前記フォトマスクを照明し、該フォトマスク上のパターンを投影光学系により被露光基板上に投影露光する露光方法において、前記投影光学系の瞳面の共役面に相当する照明光学系の面内において前記原点に対しX軸上の対称な2つの位置及びY軸上で対称な2つの位置に照明光の強度が他の位置より大なる領域をそれぞれ形成し、前記X軸上で対称な位置に形成された照明光の強度大なる領域ではY方向の成分を持つ偏光光を通過させると共に、前記Y軸上で対称な位置に形成された領域ではX方向の成分を持つ偏光光を通過させ、前記フォトマスク上では、X方向に長いパターンに対しては前記偏光光のうちX方向の成分を持つ偏光光のみを通過させ、Y方向に長いパターンに対しては前記偏光光のうちY方向の成分を持つ偏光光のみを通過させることを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 515 E ,  H01L 21/30 528