特許

J-GLOBAL ID：200903005684404161

沈降シリカの製造方法

発明者： ハインツ エッシュ ,  ローベルト クールマン ,  マティアス ノイミュラー ,  カーリン オットー ,  ラルフ ラウシュ
出願人/特許権者： デグッサ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-184672
公開番号（公開出願番号）：特開平7-149514
出願日： 1994年08月05日
公開日（公表日）： 1995年06月13日
要約：

【要約】【目的】 改良された沈降シリカの製造方法を提供する。【構成】 該方法は、水ガラスを添加してpH値を調整した水槽に、pH値を7.0〜9.9又は10.0〜10.7に常時維持しながら、アルカリ金属珪酸塩及び鉱酸を同時に加える、その際、初期沈降温度が50°C〜90°Cであり、粘度上昇が遅くとも沈降時間の25%後に開始し、120g/lより大のシリカ含量に到達した後でpH値を6以下に調整し、固体を濾別し、洗浄し、乾燥し、次いで粉砕することよりなる。

請求項（抜粋）：

BET-表面積10〜130m2/gを有し、CTAB-表面積10〜70m2/g、平均粒径5〜20μm、10%のグリセリン分散液中のCu-磨耗量4〜50mg及びCMC溶液(20%の分散液)中の増粘特性300〜3500mPa・sを有する沈降シリカを製造する方法において、水ガラスを添加することによりpH値が7.0〜9.9ないしは10.0〜10.7に調整された水槽に、pH値を7.0〜9.9ないしは10.0〜10.7に常時維持しながら、アルカリ金属珪酸塩(重量比 SiO2:アルカリ金属酸化物=2.5〜3.9:1)及び鉱酸を同時に加える、その際、初期沈降温度が50°C〜90°Cであり、粘度上昇が遅くとも沈降時間の25%後に開始し、120g/lより大又は150g/lより大のシリカ含量に到達した後でpH値を6以下に調整し、固体を濾別し、洗浄し、乾燥し、次いで粉砕することを特徴とする、沈降シリカの製造方法。