特許
J-GLOBAL ID:200903005691583039
フレキソ印刷用版ならびにその製造方法およびそのフレキソ印刷用版を用いて有機発光層を形成する工程を含む有機EL素子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-116183
公開番号(公開出願番号):特開2004-322329
出願日: 2003年04月21日
公開日(公表日): 2004年11月18日
要約:
【課題】低粘度または芳香族炭化水素系の溶剤を含むインキであっても厚膜のパターンを均一に形成可能なフレキソ印刷用版と、その製造方法および当該版を用いた有機EL素子の製造方法を提供する。【解決手段】本発明のフレキソ印刷用版10は、版の画線部をなす凸部14の頂面16一帯に所定形状の微小凸部18を均一に形成して、均整のとれた粗面加工を施したものである。この印刷用版10は、上記頂面16の成形部位に所定形状の微小凹部を均一に備える金型を使用して、フッ素化ポリエーテル構造を有する液状フッ素系エラストマーを注型することにより得られる。有機EL素子は、かかるフレキソ印刷用版を用いて、有機高分子発光体を含有する低粘度または芳香族炭化水素系の溶剤を含む印刷インキを基板上に印刷し、こうして有機発光層を形成することによって製造することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
フッ素化ポリエーテル構造を有するフッ素系エラストマーを用いてなり、かつ版の画線部をなす凸部頂面に、平均径10〜1,000μm、平均高低差2〜150μmの微小凸部または微小凹部を均一に設けてなるフレキソ印刷用版。
IPC (5件):
B41N1/12
, B41M3/00
, C09K11/06
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (5件):
B41N1/12
, B41M3/00 Z
, C09K11/06 680
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (23件):
2H113AA04
, 2H113BA01
, 2H113BB09
, 2H113BC09
, 2H113CA17
, 2H113DA21
, 2H113DA41
, 2H113DA59
, 2H113EA06
, 2H113EA12
, 2H113FA02
, 2H113FA05
, 2H113FA36
, 2H114AA01
, 2H114BA00
, 2H114DA08
, 2H114DA21
, 2H114DA58
, 2H114DA77
, 2H114GA38
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
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