特許
J-GLOBAL ID：200903005692560830
光デイスク及び光デイスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-173233
公開番号（公開出願番号）：特開平8-022638
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：
【要約】【目的】本発明は、大きな信号記録容量を有し、特性の良い再生信号を得ることのできる光デイスク及び光デイスクの製造方法の実現を目的とする。【構成】基板の一面側及び他面側にそれぞれ第1及び第2の信号に応じた凹凸パターンを形成し、当該基板の一面及び他面にそれぞれ第1及び第2の反射膜層とを形成するようにしたことにより、従来の光デイスクに比べて2倍の容量をもつ光デイスクを形成することができると共に、ノイズの少ない良好な信号特性を有する再生信号を得ることができ、かくして大きな信号記録容量を有し、かつ良好な信号特性を有する再生信号を得ることのできる光デイスク及び光デイスクの製造方法を実現できる。
請求項（抜粋）：
一面及び他面に、それぞれ第1及び第2の記録信号に応じた凹凸パターンが形成された基板と、上記基板の上記一面上及び上記他面上にそれぞれ形成された第1及び第2の反射膜層とを具えることを特徴とする光デイスク。
IPC (3件)：
G11B 7/24 521
, G11B 7/24 538
, G11B 7/26 531
