特許
J-GLOBAL ID：200903005703204772
位相シフトマスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-301503
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159969
出願日： 1993年12月01日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 高寸法精度の転写パターンが得られる位相シフトマスクおよびその簡単な製造技術を提供する。【構成】 透明材料からなる石英基板1表面の選択的領域に埋め込まれており前記石英基板1表面と同一平面を形成している遮光膜3と、前記遮光膜3を含む前記石英基板1表面の選択的領域に設けられている位相シフタとなる透明膜4とを有するものであり、位相シフタとしての前記透明膜4の膜厚が均一に形成され得るため、前記位相シフトマスクを用いて露光する場合において、転写されたマスクパターンは、前記位相シフトマスクに対応した寸法精度となり、高精度の寸法精度をもって転写を行うことができる。
請求項（抜粋）：
透明材料からなるマスク基板と、前記マスク基板表面の選択的領域に埋め込まれている遮光膜であって、前記マスク基板表面と同一平面を形成している前記遮光膜と、前記遮光膜を含む前記マスク基板表面の選択的領域に設けられている位相シフタとなる透明膜とを有することを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
