基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲岡耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-112863
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303170
出願日： 1997年04月30日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】基板の表面の洗浄を良好に行うことができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】水中ローダ31のカセット33から、ローダ搬送ロボット41によって、未洗浄のウエハが1枚ずつ順次取り出され、両面ブラシ洗浄部50に搬入される。両面ブラシ洗浄部50によるブラシ洗浄によって、表面および裏面に付着した大粒子径の付着物が除去されたウエハは、表面ブラシ洗浄部60に搬入される。この表面ブラシ洗浄部60は、粒子径の小さな付着物を精密に除去する。その後、ウエハは、水洗・乾燥処理部70に搬入されて、水洗処理および乾燥処理を受ける。こうして一連の処理を経たウエハは、アンローダ搬送ロボット42によって、アンローダ32のカセット37に収容される。

請求項（抜粋）：

基板を保持する第1基板保持手段と、この第1基板保持手段に保持された基板の表面および裏面を洗浄する両面洗浄手段とを有する両面洗浄部と、基板を保持する第2基板保持手段と、上記両面洗浄手段によって洗浄された後にこの第2基板保持手段に保持された基板の表面を洗浄する表面洗浄手段とを有する表面洗浄部と、基板を保持する第3基板保持手段と、上記表面洗浄手段によって洗浄された後にこの第3基板保持手段に保持された基板を乾燥させる基板乾燥手段を有する乾燥部とを含む処理部群を備えていることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 351 , H01L 21/304 321 , H01L 21/304 341

FI (3件)：

H01L 21/304 351 S , H01L 21/304 321 A , H01L 21/304 341 B

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