特許

J-GLOBAL ID：200903005709907457

安定ラジカルを持つ高分子化合物の製造方法

発明者： 磯 憲司 ,  島 義和
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (1件)： 永井 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-332174
公開番号（公開出願番号）：特開2005-097409
出願日： 2003年09月24日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【目的】立体障害性ニトロキシルラジカルを側鎖に持つ高分子を製造する。 【構成】立体障害性環状2級アミン構造を側鎖に持つ高分子を水への溶解度が低く、かつ水と2相系を形成する有機溶媒に溶解し、水溶性触媒を含む触媒液の存在下、過酸化水素によって酸化する。 【効果】立体障害性ニトロキシルラジカルを高いラジカル濃度で側鎖に持つ高分子が触媒の混入なく得られる。【選択図】なし。

請求項（抜粋）：

立体障害性環状2級アミン構造を側鎖に持つ高分子を、水への溶解度が低くかつ水と2相系を形成する有機溶媒に溶解し、水溶性酸化触媒を含む触媒液の存在下、過酸化水素によって酸化することを特徴とする、立体障害性ニトロキシルラジカルを側鎖にもつ高分子の製造方法。

IPC (2件)：

C08F8/06 ,  C08G85/00

FI (2件)：

C08F8/06 ,  C08G85/00

Fターム (32件)：

4J031CD03 ,  4J100AB07P ,  4J100AE09P ,  4J100AF10P ,  4J100AG08P ,  4J100AL08P ,  4J100AM21P ,  4J100AP01P ,  4J100AS06P ,  4J100BC65P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100DA55 ,  4J100HA01 ,  4J100HB29 ,  4J100HB34 ,  4J100HB36 ,  4J100HB38 ,  4J100HB44 ,  4J100HB52 ,  4J100HB58 ,  4J100HB61 ,  4J100HD01 ,  4J100HE13 ,  4J100HE41 ,  4J100JA43 ,  5H050AA19 ,  5H050CA20 ,  5H050CA21 ,  5H050GA15 ,  5H050HA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 蓄電デバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-104629   出願人：日本電気株式会社