特許

J-GLOBAL ID：200903005716653495

露光マスクおよびその製造方法ならびに露光方法

発明者： 鏡 一郎 ,  平田 誠 ,  篠原 裕介 ,  郡司 剛彦
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-052562
公開番号（公開出願番号）：特開2004-264385
出願日： 2003年02月28日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：

【課題】複数工程に対応した複数のパターン領域を1枚に備える露光マスクにおいて、高精度な露光を実現できるようにすること。【解決手段】本発明は、露光装置のレンズを介して照射される光を転写パターンに応じて遮光するため、透光性基板に遮光もしくは半遮光のパターンを備えるパターン領域A〜Zが複数のブロックに分かれて配置される露光マスク11〜14において、透光性基板におけるパターン領域A〜Zのブロック毎の配置が露光装置のレンズの収差に対応しているものである。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

露光装置のレンズを介して照射される光を転写パターンに応じて遮光するため、透光性基板に遮光もしくは半遮光のパターンを備えるパターン領域が複数のブロックに分かれて配置される露光マスクにおいて、 前記透光性基板における前記パターン領域のブロック毎の配置が前記露光装置のレンズの収差に対応している ことを特徴とする露光マスク。

IPC (3件)：

G03F1/08 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F1/08 A ,  G03F7/22 H ,  H01L21/30 502P ,  H01L21/30 541S ,  H01L21/30 531M

Fターム (13件)：

2H095BB03 ,  5F046AA25 ,  5F046CA07 ,  5F046CB17 ,  5F046GD01 ,  5F046GD03 ,  5F046GD13 ,  5F046PA05 ,  5F056AA22 ,  5F056CC11 ,  5F056EA04 ,  5F056FA05 ,  5F056FA07