特許
J-GLOBAL ID：200903005719304505
回転式コンプレッサ用ベーンの物理蒸着膜形成方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190485
公開番号（公開出願番号）：特開平7-041945
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月10日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】圧縮流体としてどの様な流体が使用されても、回転式コンプレッサのベーンが充分な耐磨耗性を確保でき、ベーンの表面全体に均一な耐磨耗性処理を一度に多数のベーンで行って製品を低廉化する。【構成】 複数の回転式コンプレッサ用ベーン3を治具15の外周部に放射状に取り付け、この治具15を蒸着源の周りを公転および自転させながら移動して、真空薄膜形成処理を行うことにより、各ベーン3の表面に物理蒸着膜を形成する、回転式コンプレッサ用ベーン3の物理蒸着膜形成方法。
請求項（抜粋）：
複数の回転式コンプレッサ用ベーンを治具の外周部に放射状に取り付け、この治具を蒸着源の周りを公転および自転させながら移動して、真空薄膜形成処理を行うことにより、各ベーンの表面に物理蒸着膜を形成することを特徴とする回転式コンプレッサ用ベーンの物理蒸着膜形成方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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