特許
J-GLOBAL ID：200903005723564147
EUV露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-148964
公開番号（公開出願番号）：特開2005-332923
出願日： 2004年05月19日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
【課題】 EUV露光装置において、光源から飛来するイオン化したガス粒子が照明光学系のミラーに当たりミラー表面にダメージを与えることを回避する【解決手段】 光源から露光装置にいたる空間において、集光ミラーにて集光されたEUV光を通すオリフィスにて光源および集光ミラーを配置する空間と照明光学系を配置する空間とに実質的に空間を分離して差動排気構成とし、オリフィスと照明光学系の最初のミラーとの間にてEUV光路に電界または磁界をかけ、オリフィスを通過して照明光学系空間に飛来するイオン化したガス粒子の軌道を光路からそらすことによってミラーに当たらないようにする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
EUV露光装置において、光源と露光装置光学系とが配置されている空間を、露光に用いるEUV光が通過する部分にのみ開口をつけた隔壁によって光源空間と光学系空間とに実質的に分離してそれぞれの空間の間に圧力差を生じさせ、かつ光学系空間の前記EUV光路に対して電界または磁界のいずれか一方あるいは両方をかけたことを特徴とした露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531A
, G03F7/20 503
2H097BA02
, 2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046DA27
, 5F046GA07
, 5F046GA14
, 5F046GB01
, 5F046GB09
, 5F046GC03
