特許
J-GLOBAL ID：200903005744827539
TFT-LCDの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-053258
公開番号（公開出願番号）：特開平5-257167
出願日： 1992年03月12日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】TFT-LCDにおいて、TFT-LCDの製造工程短縮を行い、低コスト,高信頼性のTFT-LCDを提供することである。【構成】スパッタ装置で形成する電極材料は反転マスクのレジストが形成されているガラス基板上に堆積され、その後リフトオフ法でパターニングする。【効果】上記製造方法では、スパッタ装置で形成する電極材料はリフトオフ法でパターニングされるため、金属のエッチング工程はなくなり、また、ホトレジストは金属のエッチング液にさらされないので、ホトレジストの剥離は容易になる。以上により、TFTの製造工程数は短縮されるので、低コスト,高信頼性のTFT-LCDを提供することができる。
請求項（抜粋）：
TFT-LCD(Thin Film Transistor - Liquid Crystal Display)の製造方法において、スパッタ装置で形成する電極材料は反転マスクのレジストが形成されているガラス基板上に堆積され、その後リフトオフ法でパターニングされることを特徴とするTFT-LCDの製造方法。
IPC (6件)：
G02F 1/136 500
, H01L 21/28
, H01L 27/12
, H01L 29/40
, H01L 21/336
, H01L 29/784
