特許
J-GLOBAL ID：200903005756517454
マスクの検査方法及びマスクの検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-092245
公開番号（公開出願番号）：特開2001-330941
出願日： 1998年02月19日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：
【要約】【課題】 近接効果補正したマスクパターン検査において、修正した微細パターン以外のパターン部分の検査感度を落とさずに検査可能なマスクの検査方法を提供する。【解決手段】 近接効果補正により得られたマスクパターン設計データ100と、マスクパターン設計データにより作成されたマスクのパターンデータ200とを比較して当該マスクパターンを検査するに際し、マスクパターン設計データ100とマスクのパターンデータ200との差分値を演算するに際し、当該パターンデータ200に対して、予め定められた所定の幅だけ拡大した第1の検査領域B1とマスクのパターンデータ200の全検査領域から当該第1の検査領域を除いた第2の検査領域B2とを設定し第1の検査領域B1と第2の検査領域B2で互いに異なる検査感度を適用して検査するマスクの検査方法。
請求項（抜粋）：
近接効果補正により得られたマスクパターン設計データと、当該マスクパターン設計データにより作成されたマスクのパターンデータとを比較して当該マスクパターンを検査する方法に於て、当該マスクパターン設計データと当該マスクのパターンデータとの差分値を演算するに際し、当該パターンデータに対して、近接効果補正により修正した部分を予め定められた所定の幅だけ拡大した第1の検査領域と当該マスクのパターンデータの全検査領域から当該第1の検査領域を除いた第2の検査領域とを設定し、当該第1の検査領域と第2の検査領域で互いに異なる検査感度を適用して検査する事を特徴とするマスクの検査方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G01B 11/24
, G01N 21/956
, H01L 21/027
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 S
, G01N 21/956 A
, G01B 11/24 K
, H01L 21/30 502 P
