特許

J-GLOBAL ID：200903005764557325

フォトレジスト組成物用の反射防止膜用組成物及びそれの使用法

発明者： ディング・シュージ ,  ルー・ピン-ハン ,  カンナ・ディネッシュ・エヌ ,  シャン・ジアンフイ ,  ダラム・デイナ・エル ,  ダメル・ラルフ・アール ,  ラーマン・エム・ダリル
出願人/特許権者： クラリアント・インターナショナル・リミテッド
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-546558
公開番号（公開出願番号）：特表2000-512402
出願日： 1998年04月21日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：

【要約】本発明は、溶剤組成物中に新規ポリマーを含んでなる反射防止膜用組成物に関する。更に本発明は、この反射防止膜用組成物をフォトリソグラフに使用する方法も含む。この反射防止膜用組成物は、新規ポリマー及び溶剤組成物を含み、ここでこの反射防止膜の新規ポリマーは、約180nm〜約450nmの放射線を吸収する染料を含む少なくとも一種の単位、及び芳香族官能基を含まない少なくとも一種の単位を含んでなる。溶剤は、好ましくは有機系の、低毒性の溶剤であるか、あるいは水であることができ、そして溶剤が水からなる場合には、これは追加的に他の水混和性の有機溶剤を含んでいてもよい。

請求項（抜粋）：

a)以下の単位を含んでなるポリマー、つまり以下の構造 [式中、 R1〜R4は、互いに独立して、水素、アルキル、アルコキシ、アルキルエー テル、ハロゲン、シアノ、ジビニルシアノ、アリール、アラル キル、アミノ、ヒドロキシ、フルオロアルキル、ニトロ、アミ ド、アルキルアミド、スルホン酸、スルホネートエステル、カ ルボン酸、カルボン酸エステル、またはカルボン酸もしくはス ルホン酸のアルカリ塩であり、 Xは、N=N、R'C=CR'、R'C=NまたはN=CR'であり、ここでR'はHまたはアル キルであり、 Yは、アリール、アラルキル、複素環状基またはアルキルであり、 mは、1〜3である] を有する少なくとも一種の染料単位、及び以下の式 [式中、 R6〜R9は、互いに独立して、水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ア ルキルエーテル、アミノ、ヒドロキシ、フルオロアルキル、ア ミド、アルキルアミド、カルボン酸、カルボン酸エステル、ス ルホン酸、スルホン酸エステル、カルボン酸もしくはスルホン 酸のアルカリ塩または架橋性基であるか、あるいはR8及びR9は 一緒になって酸無水物基を形成する] で表される少なくとも一種の非芳香族系コモノマー単位を含むポリマー、及 び b)溶剤組成物、を含む、フォトリソグラフに使用するのに適した反射防止膜用組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/11 503 ,  C08F 8/30 ,  C08F212/14 ,  C08L 25/18 ,  H01L 21/027 ,  C08F220:14

FI (5件)：

G03F 7/11 503 ,  C08F 8/30 ,  C08F212/14 ,  C08L 25/18 ,  H01L 21/30 574