特許
J-GLOBAL ID:200903005773324104

プラズマ発生方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-034985
公開番号(公開出願番号):特開平6-251897
出願日: 1993年02月24日
公開日(公表日): 1994年09月09日
要約:
【要約】【目的】 プラズマ源の陰極表面が汚染されず、しかも均一な状態のプラズマを発生し得るプラズマ発生方法及びその装置を提供するものである。【構成】 プラズマ源である圧力勾配型プラズマ銃1から真空容器10内へそれぞれ別個なキャリアガスを供給するニードルバルブ5a,5bに対し、これらを独立的に制御するガス供給制御手段としての流量制御機構9a,9bを備えている。流量制御機構9bは、放電開始時に副ガス供給手段としてのニードルバルブ5bを介して圧力勾配型プラズマ銃1のガス導入口Dよりヘリウムキャリアガスを真空容器10内へ供給してグロー放電を行わせる。流量制御機構9aは、グロー放電からアーク放電へ移行した後の放電進行時に、主ガス供給手段としてのニードルバルブ5aを介してガス導入口Dよりヘリウムキャリアガスに代えてアルゴンキャリアガスを真空容器10内へ供給する。
請求項(抜粋):
プラズマ源から真空容器内にアルゴンキャリアガスを供給し、該真空容器内で該プラズマ源によりプラズマを発生するプラズマ発生方法において、前記プラズマ源による放電開始時には水素キャリアガス又はヘリウムキャリアガスを前記プラズマ源から前記真空容器内へ供給することによりグロー放電を行わせ、該グロー放電からアーク放電に移行した後には、前記水素キャリアガス又は前記ヘリウムキャリアガスに代えて前記アルゴンキャリアガスを供給することを特徴とするプラズマ発生方法。

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