特許
J-GLOBAL ID:200903005783820894
フッ素化合物含有ガスの処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-004349
公開番号(公開出願番号):特開平10-192653
出願日: 1997年01月14日
公開日(公表日): 1998年07月28日
要約:
【要約】【課題】C2F6などのフッ素化合物含有ガスを効率良く分解する分解処理方法及び触媒を提供する。【解決手段】C2F6のように炭素を2つ以上含み、かつフッ素原子を含む化合物、もしくは窒素原子とフッ素原子を含む化合物の少なくとも一方を含むガス流を、アルミナ,チタニア,シリカ,ジルコニアの少なくとも一種を含む触媒と、約400〜約800°Cの温度で、有効量の水蒸気の存在下で接触させて、前記ガス流中のFをHFに転化する。【効果】フッ素化合物含有ガスを効率良く分解処理することができる。
請求項(抜粋):
炭素を2つ以上含み、かつフッ素原子を含む化合物、もしくは窒素原子とフッ素原子を含む化合物の少なくとも一方を含むガス流を、アルミナ,チタニア,シリカ,ジルコニアの少なくとも一種を含む触媒と約400〜800°Cの温度で、有効量の水蒸気の存在下で接触させて、前記ガス流中のFをHFに転化する工程を含んでなることを特徴とするフッ素化合物含有ガスの処理方法。
IPC (5件):
B01D 53/86 ZAB
, A62D 3/00 ZAB
, B01J 21/04
, B01J 21/06
, B01J 21/08
FI (5件):
B01D 53/36 ZAB G
, A62D 3/00 ZAB
, B01J 21/04 A
, B01J 21/06 A
, B01J 21/08 A
引用特許:
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