特許
J-GLOBAL ID：200903005791960654
マスター情報担体
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-098732
公開番号（公開出願番号）：特開平11-296849
出願日： 1998年04月10日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：
【要約】【課題】 将来の10ギガビットオーダーの面記録密度に対応したプリフォーマット記録を実現可能なマスター情報担体を提供する。【解決手段】 シリコンもしくはシリコン酸化物からなる基体6の表面に、マスター情報パターンに対応した凹凸形状を形成する。凹凸形状の少なくとも凸部7の表面に磁性薄膜8を形成する。基体6をシリコンもしくはシリコン酸化物で作製し、反応性イオンエッチング法もしくは反応性プラズマエッチング法を用いて凹凸形状を加工した後に、磁性薄膜8を形成する。
請求項（抜粋）：
基体の表面に情報信号に対応する凹凸形状が形成され、前記凹凸形状の少なくとも凸部の表面に磁性薄膜が形成されたマスター情報担体であって、前記基体がシリコンもしくはシリコン酸化物からなり、前記凹凸形状が反応性イオンエッチング法もしくは反応性プラズマエッチング法を用いて加工されたことを特徴とするマスター情報担体。
IPC (3件)：
G11B 5/84
, G11B 5/74
, G11B 5/86
G11B 5/84 Z
, G11B 5/74
, G11B 5/86 C
