特許

J-GLOBAL ID：200903005796093029

マイクロレンズ基板およびその製造法

発明者： 山本 学 ,  岡部 将人 ,  小林 弘典
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-319511
公開番号（公開出願番号）：特開2001-141906
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 製造工程が簡便であるため、コスト的に有利であり、かつ精度良く製造されるため品質の良好なマイクロレンズ基板と、このようなマイクロレンズ基板の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 基板と、この基板の表面上に設けられ、濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層と、この濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロレンズとを有することを特徴とするマイクロレンズ基板を提供することにより上記目的を達成する。

請求項（抜粋）：

基板と、この基板の表面上に設けられ、濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層と、この濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロレンズとを有することを特徴とするマイクロレンズ基板。

IPC (3件)：

G02B 3/00 ,  H01L 27/14 ,  H04N 5/335

FI (3件)：

G02B 3/00 A ,  H04N 5/335 V ,  H01L 27/14 D

Fターム (12件)：

4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118CB14 ,  4M118EA20 ,  4M118GB11 ,  4M118GC07 ,  4M118GD04 ,  4M118GD07 ,  5C024CY47 ,  5C024EX43 ,  5C024GZ36

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-252603
  
• 特開平4-301801