特許

J-GLOBAL ID：200903005816950551

新規フェノールスルホン酸エステルおよびその用途

発明者： 浦上 達宣 ,  詫摩 啓輔
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-325737
公開番号（公開出願番号）：特開平9-157245
出願日： 1995年12月14日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：

【要約】【解決手段】 式(1)で表されるフェノールスルホン酸エステルおよび酸発生剤として該スルホン酸エステルを含有するポジ型フォトレジスト材料。(式中、R1 〜R5 は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基またはアルケニル基を示し、R6 は置換されていてもよいアルキル基またはアリール基を示し、m、nは1または2を示す。)【効果】 感度および解像度の優れた高エネルギー線用ポジ型フォトレジスト材料を提供する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)(化1)で表されるフェノールスルホン酸エステル。【化1】(式中、R1 〜R5 は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基またはアルケニル基を示し、R6 は置換されていてもよいアルキル基またはアリール基を示し、m、nは1または2を示す。)

IPC (3件)：

C07C309/64 ,  C07C309/73 ,  G03F 7/004 503

FI (3件)：

C07C309/64 ,  C07C309/73 ,  G03F 7/004 503

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭56-159644
  
• 特開昭57-143329
  

審査官引用 (1件)

• 特開昭56-159644