特許

J-GLOBAL ID：200903005819680440

研磨液及び研磨方法

発明者： 山本 力 ,  吉田 将展
出願人/特許権者： 輝化学工業株式会社
代理人 (1件)： 中尾 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-356524
公開番号（公開出願番号）：特開平11-181408
出願日： 1997年12月25日
公開日（公表日）： 1999年07月06日
要約：

【要約】【課題】表面粗さがナノメータないしはオングストロームオーダーの平滑面高精度の鏡面加工の能率と精度とを向上する手段。【解決手段】0.1ないし10重量%の研磨剤と、0.1ないし10重量%の滑剤と、3ないし40重量%の潤滑調整剤とを水または油脂剤に分散、混合してなることを特徴とする研磨液を提供する。滑剤としては、雲母、グラファイト、タルク、六方晶系窒化硼素、または弗素樹脂の中のいずれか1種または2種以上の微粉が好ましく用いられる。電子工学をはじめ、機械工学、光学などの分野で極めて精度の高い鏡面加工、例えば、LSI用シリコン、VTRのヘッド、高出力レーザ用鏡などの加工に好適である。

請求項（抜粋）：

0.1ないし10重量%の研磨剤と、0.1ないし10重量%の滑剤と、3ないし40重量%の潤滑調整剤とを水または油脂剤に分散、混合してなることを特徴とする研磨液。

IPC (2件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14

FI (4件)：

C09K 3/14 550 F ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 E ,  C09K 3/14 550 J