特許
J-GLOBAL ID：200903005827741270
半導体製作プロセスの監視とコントロールのための方法と装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-541624
公開番号（公開出願番号）：特表2006-501680
出願日： 2003年09月25日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】【解決手段】半導体プロセスシステムによって実行される半導体製造プロセスを監視し、コントロールするために、グラフィカルユーザインターフェース(GUIs)を有するアドバンストプロセスコントロール(APC)システムが、与えられている。この半導体プロセスシステムは、多くのプロセスツールと、多くのプロセスモジュール(チャンバ)と、多くのセンサとを有し、このAPCシステムは、APCサーバとデータベースとインターフェースサーバとクライアントワークステーションとGUI構成成分とを有する。前記GUIは、ウェブに基づいており、ウェブブラウザを用いてユーザによって見られることができる。
請求項（抜粋）：
半導体プロセス環境におけるプロセスツールをコントロールするためのアドバンストプロセスコントロール(APC)システムであり、
APCに関連した複数のアプリケーションを与えるAPCサーバと、
このAPCサーバに結合されたインターフェースサーバ(IS)と、
前記ISとAPCサーバに結合されたデータベースと、
前記APCサーバに結合されたGUI構成成分とを具備し、
前記ISは、プロセスツールに結合するための手段と、複数のプロセスモジュールに結合するための手段と、複数のセンサに結合するための手段とを有する、APCシステム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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