特許

J-GLOBAL ID：200903005828351890

ポリマー組成物およびパターン形成方法

発明者： 平尾 一之 ,  邱 建栄 ,  川崎 真一 ,  藤木 剛 ,  村瀬 裕明 ,  山田 光昭
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 鍬田 充生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-079378
公開番号（公開出願番号）：特開2003-277612
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】 レーザ光の照射によりパターンが形成可能なポリマー組成物と、このパターン形成方法を提供する。【解決手段】 ポリシランで構成されたポリマー組成物(又は成形体)に、レーザ光を照射し、表面又は内部に光学的特性(色彩、透明性、屈折率、反射率、誘電率など)の変化を生じさせ、パターンを形成する。ポリマー組成物は、さらに樹脂を含んでいてもよい。前記前記ポリシランは、下記式(1)で表される構造単位のうち少なくとも1つの単位を有する。【化1】(式中、R1〜R3は、水素原子、アルキル基、アリール基、シリル基などを示し、m,n,pは正の整数を示す)

請求項（抜粋）：

ポリシランで構成されており、かつレーザ光の照射により光学的特性の変化を生成可能なポリマー組成物。

IPC (6件)：

C08L 83/16 ,  B41M 5/26 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/075 511 ,  B23K 26/00

FI (6件)：

C08L 83/16 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/075 511 ,  B23K 26/00 B ,  B41M 5/26 S

Fターム (62件)：

2H025AA00 ,  2H025AB14 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BH05 ,  2H025CB32 ,  2H111HA01 ,  2H111HA07 ,  2H111HA14 ,  2H111HA23 ,  2H111HA34 ,  2H111HA35 ,  4E068AB01 ,  4E068CA03 ,  4E068CA04 ,  4E068DB10 ,  4J002AB01X ,  4J002BB00X ,  4J002BB02X ,  4J002BB06X ,  4J002BB07X ,  4J002BB08X ,  4J002BB11X ,  4J002BB15X ,  4J002BB17X ,  4J002BB23X ,  4J002BC02X ,  4J002BC03X ,  4J002BC06X ,  4J002BC07X ,  4J002BD00X ,  4J002BD03X ,  4J002BD12X ,  4J002BE02X ,  4J002BF01X ,  4J002BF02X ,  4J002BG01X ,  4J002BG05X ,  4J002BG06X ,  4J002BG13X ,  4J002BH02X ,  4J002BK00X ,  4J002CB00X ,  4J002CF00X ,  4J002CF05X ,  4J002CF06X ,  4J002CF07X ,  4J002CF08X ,  4J002CF16X ,  4J002CG01X ,  4J002CH07X ,  4J002CH09X ,  4J002CK02X ,  4J002CL00X ,  4J002CL01X ,  4J002CL03X ,  4J002CM02X ,  4J002CM05X ,  4J002CN01X ,  4J002CP01W ,  4J002CP03X ,  4J002GP00