特許
J-GLOBAL ID：200903005832532182
ディスク用被膜形成装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-131283
公開番号（公開出願番号）：特開平7-308626
出願日： 1994年05月20日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：
【要約】【目的】 ディスクに気泡の巻き込みのない高品位の被膜形成を施すことのできる高い生産能力を有するディスク用被膜形成装置及び方法を提供する。【構成】 ディスクの表面に被膜を形成するディスク用被膜形成装置において、ディスクを支持してディスク受け位置d6から塗料滴下位置d9を通ってディスク渡し位置d10 まで搬送するディスク搬送機構5と、塗料滴下位置d9でディスクに塗料を滴下する単一の塗料滴下手段8と、ディスク渡し位置d10 からディスク受け渡し位置d11 にディスクを搬送する搬送アーム9と、ディスク受け渡し位置d11でディスクを順次載置されて高速回転を開始し、高速回転しながらディスク受け渡し位置d11 とディスク退避位置d12 ,d13 間を移動する複数のスピン振り切り手段11,12とからなる。
請求項（抜粋）：
ディスクの表面に被膜を形成するディスク用被膜形成装置において、ディスクを支持してディスク受け位置d6から塗料滴下位置d9を通ってディスク渡し位置d10 まで搬送するディスク搬送機構と、塗料滴下位置d9でディスクに塗料を滴下する単一の塗料滴下手段と、ディスク渡し位置d10 からディスク受け渡し位置d11 にディスクを搬送する搬送アームと、ディスク受け渡し位置d11 でディスクを順次載置されて高速回転を開始し、高速回転しながらディスク受け渡し位置d11 とディスク退避位置d12 ,d13 間を移動する複数のスピン振り切り手段とからなることを特徴とするディスク用被膜形成装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, G03F 7/16 502
, G11B 7/26 531
, G11B 11/10 541
