特許
J-GLOBAL ID:200903005833308499

プラズマ反応装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 守
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-027992
公開番号(公開出願番号):特開平7-235523
出願日: 1994年02月25日
公開日(公表日): 1995年09月05日
要約:
【要約】【目的】 プラズマが余り照射されないか、または全く照射されない領域に付着堆積した堆積反応生成物をもドライクリーニングによってエッチング除去する。【構成】 ステージ電極2の異常放電を防止する絶縁部材19とウエハクランプ13とをドライクリーニング時に、上記絶縁部材19および上記ウエハクランプ13を移動しそれらの隠部をプラズマ発生領域に曝すようにしたものである。
請求項(抜粋):
真空チャンバと、上記真空チャンバ内に配設された上部電極およびこれに対向に設けられたステージ電極と、上記真空チャンバと上記ステージ電極間に設けられた絶縁部材と、上記ステージ電極にウエハを固定するウエハクランプとを備え、上記ウエハクランプおよび上記絶縁部材を上記上部電極方向に移動し得るようにしたことを特徴とするプラズマ反応装置。
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る