特許

J-GLOBAL ID：200903005833897923

水素または酸素製造用触媒

発明者： 佐々木 學 ,  吉田 範行
出願人/特許権者： 株式会社 イオン管財
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-069471
公開番号（公開出願番号）：特開平10-263397
出願日： 1997年03月24日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：

【要約】【課題】 簡単な施設でしかも高温にすることなく連続的に水から水素(酸素)を製造する。【解決手段】 炉内における主たる反応は以下の如くと推定される。 触媒の還元反応:SiO2=SiO+O・・・・・・・・・・(1) 純水の酸化反応:H2O+O=H2+O2・・・・・・・・・(2) 触媒の酸化反応:SiO+H2O=SiO2+H2・・・・・・(3) 触媒の酸化反応:SiO+1/2O2=SiO2・・・・・・・・(4)減圧・加熱下において、触媒を構成しているSiO2の一部は、反応式(1)で示すように脱酸してSiO+Oとなる。そして、SiO2から分離したOが反応式(2)に示すようにH2Oと反応して、水素(H2)と酸素(O2)を生成する。脱酸されたSiOは反応式(3)に示すようにH2Oと反応して、SiO2と水素(H2)を生成し、そして、生成された酸素(O2)の一部が反応式(4)に示すようにSiOと反応してSiO2となると考えられる。

請求項（抜粋）：

水と接触することで連続的に水素または酸素を製造する触媒であって、この触媒は酸化珪素を主体とし、その電極電位(標準酸化還元電位)は0mV〜-700mVであることを特徴とする水素または酸素製造用触媒。

IPC (4件)：

B01J 21/08 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/745 ,  C01B 3/02

FI (4件)：

B01J 21/08 M ,  B01J 21/06 M ,  C01B 3/02 B ,  B01J 23/74 301 M