特許
J-GLOBAL ID：200903005837763840
低反射層を有する転写箔及びこれを用いた成型品の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001004582
公開番号（公開出願番号）：WO2001-092006
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月06日
要約：
【要約】製品の成型と同時に機能層を転写することにより、製造工程の簡略化及び製造コストの抑制を図りながら、簡易かつ確実・強力に、成型品の表面に反射防止性、耐擦傷性、耐光性、帯電防止性、電磁波遮蔽性等の高機能及び多機能化を付与することができる低反射層を有する転写箔、これを用いた成型品の製造方法を提供することを目的とする。離型性を有する基体フィルム上に、透明低反射層、保護層及び接着層が順次積層されてなる低反射層を有する転写箔及びこの低反射層を有する転写箔を射出成型金型内に挟み込み、接着層側に溶融樹脂を射出することにより樹脂成型品を形成するのと同時に、該樹脂成型品の表面に前記転写箔を接着させ、その後離型性を有する基体フィルムを剥離することからなる低反射層を有する成型品の製造方法。
請求項（抜粋）：
離型性を有する基体フィルム上に、透明低反射層、保護層及び接着層が順次積層されてなることを特徴とする低反射層を有する転写箔。
IPC (7件)：
B32B 7/02 103
, B29C 45/16
, B32B 7/06
, C08L101/00
, G02B 1/10
, G02B 1/11
, B29L 11:00
B32B 7/02 103
, B29C 45/16
, B32B 7/06
, C08L101/00
, G02B 1/10 A
, G02B 1/10 Z
