特許
J-GLOBAL ID:200903005846542636
透明導電体材料
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-150479
公開番号(公開出願番号):特開平5-343716
出願日: 1992年06月10日
公開日(公表日): 1993年12月24日
要約:
【要約】【目的】 結晶性を改善して得られる導電性と透明性に優れた高品位の透明導電体材料を提供する。【構成】 酸化錫を5wt%含有する酸化インジウムの焼結体ターゲットを1%の酸素を含有するアルゴンガスでスパッタする反応性スパッタリング法で、ガラス基板1に対して(100)方向に結晶配向したITO薄膜2を形成する。こうして、酸化インジウムの稠密面(100)を基板面と平行にした理想的な結晶配向に成るように結晶性を改善して得られたITOは、電気的特性および光学的特性に優れた高品位の透明導電体材料である。
請求項(抜粋):
基板面に対して(100)方向に結晶配向した錫添加酸化インジウム膜から成ることを特徴とする透明導電体材料。
IPC (6件):
H01L 31/04
, C30B 29/16
, G02B 1/02
, H01B 5/14
, H01J 29/96
, C30B 23/08
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平3-071650
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特開平4-048516
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特開平3-071650
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