特許
J-GLOBAL ID：200903005849507777
被洗浄基板の洗浄方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-143409
公開番号（公開出願番号）：特開平7-006991
出願日： 1993年06月15日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：
【要約】【目的】この発明は被洗浄基板に対する洗浄効果を高めることができるようにした洗浄方法および装置を提供することにある。【構成】 被洗浄基板5に付着した微粒子を洗浄液で洗浄する洗浄方法において、上記被洗浄基板に超音波振動が付与された洗浄液L1 を噴射する第1の洗浄工程と、超音波洗浄された被洗浄基板に超音波洗浄時の洗浄液よりも圧力の高い洗浄液L2 を噴射する第2の洗浄工程とを具備したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被洗浄基板に付着した微粒子を洗浄液で洗浄する洗浄方法において、上記被洗浄基板に超音波振動が付与された洗浄液を噴射する第1の洗浄工程と、超音波洗浄された被洗浄基板に超音波洗浄時の洗浄液よりも圧力の高い洗浄液を噴射する第2の洗浄工程とを具備したことを特徴とする被洗浄基板の洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/12
, G03F 1/08
