特許
J-GLOBAL ID：200903005860087275
基板洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-159032
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005575
出願日： 1992年06月18日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】 摩擦によって基板を洗浄する際、基板を均一に洗浄し、洗浄効果を向上させる。【構成】 基板洗浄部は基板24を垂直方向に移動及び振動可能なアーム23とプレート状のスクラブ材19とスクラブ材19を水平方向に振動可能な駆動装置35とを有する。スクラブ材19には斜め方向に並んだ溝を有している。洗浄時には、基板24とスクラブ材19との両方を振動させる。
請求項（抜粋）：
板状の基板に付着した異物を摩擦により除去する基板洗浄装置において、高圧を加えた水を噴射する高圧洗浄部と;前記基板を所定の第1方向に移動及び振動させる第1駆動手段と;前記第1方向に対して斜め方向に並んだ縞状の溝を有するプレート状のスクラブ材を前記基板表面とほぼ平行な面内で前記第1方向に対してほぼ垂直な方向に振動させる第2駆動手段と;超音波を重畳させた水を噴射する超音波洗浄部とを同一洗浄槽に設け、前記基板の第1方向の振動と前記スクラブ材の前記第2方向の振動とにより前記基板をほぼ均一に洗浄することを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
