疎水性沈降シリカ、その製法およびその使用

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-225136
公開番号（公開出願番号）：特開2003-160327
出願日： 2002年08月01日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：

【要約】【課題】高い白色度を有し、非常に良好にシリコーンゴム配合物中に混和させることのできる疎水性沈降シリカ、その製法およびその使用を提供する。【解決手段】 a)オルガノポリシロキサン誘導体および沈降シリカからなる混合物を製造し、b)混合物のコンディショニングを10〜150°Cで0.5〜72時間実施することにより疎水性沈降シリカを製造することにより達せられる。

請求項（抜粋）：

以下の特性: 炭素含量 1.0〜8.0% メタノール湿潤性 20〜55% 反射率 >94% BET/CTABの比 ≦1 DBP-吸収量 <250g/100g BET-表面積 50〜110m<SP>2</SP>/g CTAB-表面積 100〜150m<SP>2</SP>/g シアーズ値 <13を特徴とする、疎水性沈降シリカ。

IPC (6件)：

C01B 33/18 , C08K 9/06 , C08L 83/04 , C08L101/00 , C09C 1/28 , C09C 3/12

FI (6件)：

C01B 33/18 C , C08K 9/06 , C08L 83/04 , C08L101/00 , C09C 1/28 , C09C 3/12

Fターム (25件)：

4G072AA41 , 4G072CC14 , 4G072GG02 , 4G072HH21 , 4G072HH29 , 4G072JJ03 , 4G072MM36 , 4G072QQ07 , 4G072QQ09 , 4G072TT04 , 4G072TT06 , 4G072TT12 , 4G072UU08 , 4J002AA001 , 4J002AC001 , 4J002CP031 , 4J002DJ016 , 4J002FB266 , 4J002FD016 , 4J002GJ00 , 4J002GN01 , 4J037AA18 , 4J037CC28 , 4J037EE03 , 4J037EE43

引用特許：

出願人引用 (11件)

特開昭63-006062
微細な無機酸化物のシリル化法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-134467 出願人：ワツカー-ケミーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング
疎水性湿式法合成珪酸の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-129947 出願人：日本シリカ工業株式会社

全件表示

審査官引用 (12件)

特開昭46-001312
特開昭63-006062
微細な無機酸化物のシリル化法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-134467 出願人：ワツカー-ケミーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング

全件表示

前のページに戻る