特許
J-GLOBAL ID:200903005875431371
微細パターンシート作成装置および微細パターンシート作成方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 中村 友之
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-377910
公開番号(公開出願番号):特開2007-176039
出願日: 2005年12月28日
公開日(公表日): 2007年07月12日
要約:
【課題】型のパターンの転写を効率良く行なうことが出来ると共に、型から転写されたパターンのアスペクト比が大きくても、前記転写されたパターンが崩れにくい、微細シートパターン作成装置を提供する。【解決手段】シート状の基材3をこの長手方向に搬送することが可能な搬送手段5と、基材3の一方の面に、被成形物9を設ける被成形物設置手段7と、微細なパターンが形成されている平面状の転写面13を備えていると共に基材3の厚さ方向に移動自在な型11と、基材3に設けられている被形成物9に転写を行なうために、型11と協働して基材3を挟み込むことが可能なベースユニット15と、基材3を挟み込んでいるときに、被成形物9を硬化すべく被成形物9にエネルギーを供給するエネルギー供給手段19とを有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
所定の幅を備えた長いシート状の基材を、この長手方向に搬送することが可能な搬送手段と;
前記基材の一方の面に、被成形物を設ける被成形物設置手段と;
前記被成形物設置手段の下流側で前記基材の一方の面側に設けられ、微細なパターンが形成されている平面状の転写面を備えていると共に前記基材の厚さ方向に移動自在な型と;
前記基材に設けられている被形成物に転写を行なうために、前記型と協働して前記基材を挟み込むことが可能なベースユニットと;
前記型と前記ベースユニットとで前記基材を挟み込んでいるときに、前記被成形物を硬化すべく前記被成形物にエネルギーを供給するエネルギー供給手段と;
を有することを特徴とする微細パターンシート作成装置。
IPC (3件):
B29C 59/02
, G03F 7/20
, B29C 39/02
FI (3件):
B29C59/02 Z
, G03F7/20 501
, B29C39/02
Fターム (29件):
2H097AB05
, 2H097BA06
, 2H097BA10
, 2H097CA12
, 2H097DB13
, 2H097FA02
, 2H097LA17
, 4F204AA36
, 4F204AA44
, 4F204AF01
, 4F204AG01
, 4F204AG05
, 4F204AG21
, 4F204AH73
, 4F204EA03
, 4F204EB01
, 4F204EK02
, 4F204EK18
, 4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AG21
, 4F209AH73
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
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