特許
J-GLOBAL ID：200903005876429141

塗布方法及び塗布装置

発明者：
立山 清久

立山 清久 について

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元田 公男

元田 公男 について

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岩崎 吉彦

岩崎 吉彦 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-326180
公開番号（公開出願番号）：特開2004-130309
出願日： 2003年09月18日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】 被処理基板上に凸凹のない平坦な塗布膜を形成すること。【解決手段】 このレジスト塗布処理において、2回目以降のY方向走査では、レジストノズル154の直ぐ後で超音波照射部160をオン状態で、つまり両帯状レジスト液膜R(1),R(2)の境界E付近に向けて超音波を放射させながらレジストノズル154と一体に移動させる。この超音波照射部160の超音波照射走査により、両帯状レジスト液膜R(1),R(2)の境界E付近では、レジスト液が低粘度化ないし流動化して、に液膜表面が基板面と平行な方向(水平方向)に均され、凸凹が除去される。【選択図】 図10
請求項（抜粋）：
ほぼ水平に支持された被処理基板に対して所定の塗布液を吐出するノズルを水平面内で第1の方向に所定の間隔を置いて前記第1の方向と直交する第2の方向に走査して、各走査毎に前記基板上に前記塗布液を線状または帯状に塗布する第1の工程と、 前記基板上で隣り合う線状または帯状塗布液膜の境界付近に局所的にエネルギーを加えて前記塗布液膜を平坦化する第2の工程と を有する塗布方法。
IPC (8件)：
B05D3/12 ,  B05B17/06 ,  B05C5/00 ,  B05C5/02 ,  B05C9/12 ,  B05D1/26 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027
FI (8件)：
B05D3/12 F ,  B05B17/06 ,  B05C5/00 101 ,  B05C5/02 ,  B05C9/12 ,  B05D1/26 Z ,  G03F7/16 501 ,  H01L21/30 564Z
Fターム (45件)：
2H025AB13 ,  2H025AB17 ,  2H025EA04 ,  4D074AA01 ,  4D074BB05 ,  4D074DD33 ,  4D074DD42 ,  4D075AC02 ,  4D075AC08 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075BB13Z ,  4D075BB21Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB48Z ,  4D075BB63Z ,  4D075BB91Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB02 ,  4F041BA10 ,  4F041BA13 ,  4F041BA51 ,  4F041CA02 ,  4F041CA21 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042AB00 ,  4F042BA12 ,  4F042BA25 ,  4F042DD41 ,  4F042DD44 ,  4F042DF33 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA02 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27
引用特許：
審査官引用 (3件)

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