特許
J-GLOBAL ID:200903005892082585

軟磁性合金膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-361941
公開番号(公開出願番号):特開2000-150232
出願日: 1989年10月25日
公開日(公表日): 2000年05月30日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、保磁力が小さく透磁率が高く、その特性が熱的に安定であるとともに、高い飽和磁束密度を有する軟磁性合金膜を製造する方法の提供を目的としている。【解決手段】 本発明は、主成分のFeと、Ti,Zr,Hf,Nb,Ta,Mo,Wのうち1種または2種以上の金属元素Mと、Cとを含み、少なくとも一部を非晶質相とした薄膜を形成し、この薄膜に熱処理を施してbccのFeの結晶粒を析出させるとともに前記非晶質相から元素Mの炭化物の微細結晶を析出させることを特徴とする。
請求項(抜粋):
主成分のFeと、Ti,Zr,Hf,Nb,Ta,Mo,Wのうち1種または2種以上の金属元素Mと、Cとを含み、少なくとも一部を非晶質相とした薄膜を形成し、この薄膜に熱処理を施してbccのFeの結晶粒を析出させるとともに前記非晶質相から元素Mの炭化物の微細結晶を析出させることを特徴とする軟磁性合金膜の製造方法。
IPC (3件):
H01F 10/10 ,  H01F 10/12 ,  H01F 41/22
FI (3件):
H01F 10/10 ,  H01F 10/12 Z ,  H01F 41/22

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