特許
J-GLOBAL ID:200903005900909370

結像光学系の結像評価方法、結像光学系、露光装置、露光方法、および観察装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 孝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-386886
公開番号(公開出願番号):特開2003-188080
出願日: 2001年12月20日
公開日(公表日): 2003年07月04日
要約:
【要約】【課題】 従来の結像評価手法の前提条件である均一性を逸脱する大きな物体構造について結像評価を行うことのできる、結像光学系の結像評価方法。【解決手段】 結像光学系は点像強度分布がそのピーク位置から近似的に0とできる範囲内で均一的であるものとして、結像光学系の結像性能を評価する結像評価量を計算する結像評価方法。複数の評価対象像点における射出瞳面内の複素透過率分布(瞳関数)と、光源の瞳面内複素振幅分布(有効光源分布)とに基づいて、複数の評価対象像点上に結像する空間像を部分コヒーレントに重ね合わせ、光学的な均一性が保証されない大域的な領域における部分コヒーレントな結像評価を行う。
請求項(抜粋):
結像光学系は点像強度分布がそのピーク位置から近似的に0とできる範囲内で均一的であるものとして、前記結像光学系の結像性能を評価する結像評価量を計算する結像評価方法であって、複数の評価対象像点における射出瞳面内の複素透過率分布(瞳関数)と、光源の瞳面内複素振幅分布(有効光源分布)とに基づいて、前記複数の評価対象像点上に結像する空間像を部分コヒーレントに重ね合わせ、光学的な均一性が保証されない大域的な領域における部分コヒーレントな結像評価を行うことを特徴とする、結像光学系の結像評価方法。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G01M 11/02 ,  G03F 7/20 521
FI (3件):
G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (5件):
2G086HH07 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10

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