特許
J-GLOBAL ID：200903005906267095
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-226319
公開番号（公開出願番号）：特開平8-096989
出願日： 1994年09月21日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：
【要約】【目的】 静電チャックを簡易に構成した載置台を備えたプラズマ処理装置とその処理方法を提供する。【構成】 真空容器内に配置される載置台1上に載置された試料8を静電吸着により固定すると共に試料8に高周波電圧を印加し,プラズマにより試料8をプラズマ処理するプラズマ処理装置における上記載置台1が,試料8を載置する表面に配置された誘電体9と,静電吸着用直流電圧及び高周波電圧が交互に印加される電極ブロック10とを具備して形成される。プラズマを発生させた状態で電極ブロック10に直流電圧を印加すると,誘電体9と電極ブロック10との間に静電気力が生じるので,誘電体9上に試料8を載置して,直流電圧の印加を停止すると,誘電体9と電極ブロック10との間の静電気力は,誘電体9と試料8との間に移動して試料8が誘電体9に吸着される。プラズマ処理が終了すると,電極ブロック10に直流電圧を印加すると試料8の吸着が解除される。
請求項（抜粋）：
真空容器内に配置された載置台上に載置された試料を静電吸着により固定すると共に該試料に高周波電圧を印加し,上記真空容器内に導入された処理ガスをプラズマ化し,該プラズマにより上記試料をプラズマ処理するプラズマ処理装置において,上記載置台が,上記試料を載置する表面に配置された誘電体と,上記静電吸着用直流電圧及び上記高周波電圧が交互に印加される電極ブロックとを具備して形成されてなることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H05H 1/46
, B01J 19/08
, H01L 21/3065
, H01L 21/68
, H02N 13/00
