特許
J-GLOBAL ID：200903005921006249
光学素子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-196311
公開番号（公開出願番号）：特開平7-050251
出願日： 1993年08月06日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：
【要約】【目的】高い反射率を持った、X線用反射型マスク等の光学素子の製造方法を提供すること。【構成】基板1上に、屈折率の異なる少なくとも2種類の物質の薄膜を順次積層してX線を反射する多層膜2を形成し、この多層膜2上に、メッキ基板5を設け、電子線レジスト3’のパターンを設け、これをマスクにして、X線吸収体6のパターンをメッキ法を用いて形成する。多層膜2を構成する物質の一種類を導電性物質とし、多層膜の最上層をこの導電性物質の薄膜とすればメッキ基板5は設けなくともよい。
請求項（抜粋）：
基板上に、屈折率の異なる少なくとも2種類の物質の薄膜を順次積層してX線を反射する多層膜を形成する第1の工程と、該多層膜上に、X線吸収体の所望のパターンをメッキ法を用いて形成する第2の工程とを有することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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