特許
J-GLOBAL ID：200903005927174496
電子ビーム処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-140484
公開番号（公開出願番号）：特開2001-323369
出願日： 2000年05月12日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：
【要約】【課題】 電子ビーム管の処理室内に露出した照射部を冷却することにより、電子ビーム管の窓部の破損、窓部における副生成物からなる付着物の抑制、さらには電子ビーム管の蓋部の温度上昇を抑制する。【解決手段】 処理室2内に電子ビーム管の照射部を露出して配置し、この処理室2内に設けられる加熱台5に被処理物6を載置して、被処理物6を加熱しながら電子ビームを照射する電子ビーム処理装置において、電子ビーム管の照射部は、電子ビーム管の開口を覆うと共に電子ビームを通過させる開口部31を有する蓋部3と、開口部31を覆い電子ビームを透過させる電子ビーム透過部41を有する窓部4とから構成され、少なくとも電子ビーム透過部41を除く前記照射部に、前記照射部を冷却する冷却ブロック7を接触して配置する。さらに、窓部4に向けて冷却ガスを吹き付ける冷却ガス吹き付け手段を設ける。
請求項（抜粋）：
処理室内に電子ビーム管の照射部を露出して配置し、この処理室内に設けられた加熱台に被処理物を載置して、前記被処理物を加熱しながら電子ビームを照射する電子ビーム処理装置において、前記電子ビーム管の照射部は、電子ビーム管の開口を覆うと共に電子ビームを通過させる開口部を有する蓋部と、前記開口部を覆い電子ビームを透過させる電子ビーム透過部を有する窓部とから構成され、前記電子ビーム透過部を除く前記照射部に、前記照射部を冷却する冷却ブロックを接触して配置したことを特徴とする電子ビーム処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/30 B
, H01L 21/31 B
4K029CA15
, 4K029DB21
, 5F045AA14
, 5F045BB07
, 5F045BB14
, 5F045CB05
, 5F045EB02
, 5F045EJ01
, 5F045EJ10
, 5F045EK07
