特許
J-GLOBAL ID：200903005930360454
イオン注入方法およびイオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 邦夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-014535
公開番号（公開出願番号）：特開平8-213338
出願日： 1995年01月31日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：
【要約】【目的】帯電緩和装置の電子放出のタイミングをそれ程高精度とすることなく、ウェハーへの帯電を容易に防止し得るイオン注入方法および装置を提供する。【構成】まず、ディスク6を破線位置に移動し、ウェハー5が配された領域以外の領域にイオンビームおよび電子を照射する。次に、イオンビームおよび電子の量が安定した後に、ディスク6を実線位置に移動してウェハー5へのイオンビームおよび電子の照射を開始する。これにより、帯電緩和装置4からの電子放出タイミングをそれ程高精度とすることなく、イオンビームによる正帯電あるいは電子による負帯電を容易に防止できる。
請求項（抜粋）：
所定速度で回転されるディスクの円周方向に配されたウェハーに、イオンビームを照射すると共に帯電緩和のための電子を照射して上記ウェハーへのイオン注入を行うイオン注入方法において、まず、上記ディスクのウェハーが配された領域以外の領域に上記イオンビームおよび電子を照射し、次に、上記イオンビームおよび電子の量が安定した後に、上記ディスクに配されたウェハーに上記イオンビームおよび電子を照射することを特徴とするイオン注入方法。
IPC (2件)：
H01L 21/265
, H01J 37/317
H01L 21/265 D
, H01L 21/265 N
