特許
J-GLOBAL ID：200903005932648439
基板洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-010558
公開番号（公開出願番号）：特開平7-214015
出願日： 1994年02月01日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：
【要約】【目的】 基板の洗浄を短時間で効果的に行う。【構成】 3本の超音波ノズル15は噴出する洗浄液が基板W上の1点(収束点P)で収束すべく水平面(基板面)に対してその軸線が傾斜するとともに、各超音波ノズル15の軸は前記収束点Pを中心とした水平方向で90〜180°の範囲内に全て収められている。
請求項（抜粋）：
基板表面に存在するゴミを基板を回転させつつ排除する基板洗浄装置において、この基板洗浄装置は洗浄液を基板表面に向けて噴出する超音波洗浄ユニットを備え、この超音波洗浄ユニットは3本以上の超音波ノズルを有し、これら超音波ノズルの軸は噴出した洗浄液が基板表面の1点において収束するように配列され、更に各超音波ノズルの軸は前記収束点を中心とした水平方向で90〜180°の範囲内に全て収められていることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (5件)：
B08B 3/12
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, G03F 1/08
, H01L 21/304 341
