特許
J-GLOBAL ID：200903005933754984
走査光学装置及びその制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森下 武一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-285178
公開番号（公開出願番号）：特開2001-108930
出願日： 1999年10月06日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：
【要約】【課題】 マルチビーム走査方式において、印字密度の切換えに伴って光ビームのスポット径を変更するのみならず、光ビームの集光位置をも補正し、高品質の画像を印字できる走査光学装置及びその制御方法を得る。【解決手段】 レーザダイオード10a,10bから発せられたレーザビームLBa,LBbを感光体面50上に副走査方向に印字密度に応じた所定間隔に離間させて結像、走査する光学装置。感光体面50上でのビームスポット径は、開口規制板14を駆動して光ビームLBa,LBbが通過するスリットを変更することで調整される。副走査方向のビーム間隔はプリズム11の傾斜角度を制御することで調整され、集光位置はコリメータレンズのレンズ間隔又はシリンダレンズのレンズ間隔を制御することで調整される。
請求項（抜粋）：
複数の光ビームを発する光ビーム発生手段と、前記光ビーム発生手段から発せられた複数の光ビームを被走査面上で副走査方向に印字密度に応じた所定間隔に離間させて結像させる光学手段と、印字密度に応じて被走査面上での光ビームのスポット径を変更するスポット径変更手段と、光ビームの集光位置を検出する集光位置検出手段と、前記集光位置検出手段の検出結果に基づいて前記光学手段の光学倍率を変換して光ビームの集光位置を補正する集光位置補正手段と、前記スポット径変更手段により光ビームのスポット径を変更する際に、集光位置検出手段と集光位置補正手段とを動作させる制御手段と、を備えたことを特徴とする走査光学装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 26/10 Z
, B41J 3/00 D
2C362AA21
, 2C362AA22
, 2C362AA34
, 2C362AA47
, 2C362BA58
, 2C362BA61
, 2C362BA67
, 2C362BA71
, 2C362BA85
, 2C362BA86
, 2C362CB03
, 2C362CB08
, 2C362CB14
, 2H045AA01
, 2H045BA21
, 2H045CA82
, 2H045CA92
, 2H045CA98
, 2H045CB24
, 2H045CB32
, 2H045DA22
, 2H045DA24
