走査リングフィールド縮小投影装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (11件)：岡部正夫 , 加藤伸晃 , 産形和央 , 臼井伸一 , 藤野育男 , 越智隆夫 , 本宮照久 , 高梨憲通 , 朝日伸光 , 高橋誠一郎 , 吉澤弘司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-159765
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006908
出願日： 2003年06月04日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】リソグラフィに用いられる縮小投影装置でウェーハ上の像の収差をなくすとともに所望の加工スペースを得ることを目的とする。【解決手段】300Åから40Åまでの波長範囲内のX線放射線を用いて最大0.4μmまでの設計単位につくられるデバイスを生産するためのリソグラフィパターニングを行う走査リングフィールド縮小投影装置である。この装置の光学構成は全-反射形であり、第1の凹面ミラー25、第2の凸面ミラー26及び第3の凹面ミラーミラー30からなる三面構造を含み、第2と第3のミラー26、30の間に第4の凹面折り曲げ用ミラー29を具備する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

300Åから40Åまでの波長範囲内のX線放射線を用いて最大0.4μmまでの設計単位につくられるデバイスを生産するためのデバイス製造中に弧状スリット内に実質的に含まれた像領域を走査することによりリソグラフィパターニングを行う装置であって、この装置の光学構成は全-反射形であり、ブラッグ反射体(DBR)を備え、物体から像の方に見て順に凹、凸、凹である第1、第2及び第3の光学要素からなる三面構造を含み、前記スリットはX線放射線源の効率的な使用を可能とするような光軸からの半径である領域を含んで全ての収差を十分に小さくし前記設計ルールでのパターニングを可能とする走査リングフィールド縮小投影装置において、前記三面構造の要素は互いに十分に非球補正された反射表面により画定されて走査方向において増大した寸法を有する領域を提供することを特徴とする走査リングフィールド縮小投影装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G02B17/00 , G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531A , G02B17/00 A , G03F7/20 503

Fターム (11件)：

2H087KA21 , 2H087TA00 , 2H087TA02 , 2H097CA06 , 2H097CA15 , 2H097GB01 , 2H097LA10 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GB03

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