特許
J-GLOBAL ID：200903005934772544
パターンの測長方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-268069
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109850
出願日： 1991年10月17日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】 転写後のパターンの測長方法に関し, マスク上の寸法が転写後も保存される測長用パターンを形成し,正しい測長を可能とすることを目的とする。【構成】 1)隣接する矩形パターンが相互に平行に配列され且つ配列方向に対し垂直方向にずらして形成された測長用マスクパターンを有するマスクパターンを転写して形成した転写パターンの寸法を,転写された該測長用マスクパターンの配列ピッチに対する比を測定して求める,2)前記隣接する矩形パターンの端部が相互に接続されている,3)前記転写をエッチングで行う場合,前記測長用マスクパターン寸法が設計値にエッチングシフト量を付加した値である,4)前記転写をエッチングで行う場合,前記測長用マスクパターン寸法が設計値よりずらした値に設定され,前記転写パターンの隣接する矩形パターンの間隔より前記エッチングシフト量を求める過程を有するように構成する。
請求項（抜粋）：
隣接する矩形パターンが相互に平行に配列され且つ配列方向に対し垂直方向にずらして形成された測長用マスクパターンを有するマスクパターンを転写して形成した転写パターンの寸法を,転写された該測長用マスクパターンの配列ピッチを基準寸法とし,該基準寸法に対する相対値を測定してこれに該基準寸法を掛け合わせて求めることを特徴とするパターンの測長方法。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, G02B 11/26
, H01L 21/027
