特許

J-GLOBAL ID：200903005940086865

触媒含有高分子液晶とそれを反応場とした光学活性高分子の製造方法

発明者： 赤木 和夫 ,  後藤 博正
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-176112
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002934
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】 光学活性高分子を合成するための設計が容易な触媒系を提供し、その触媒系を利用することにより、簡便に光学活性高分子液晶を得る技術的手段を提供する。【解決手段】 光学活性高分子液晶中に反応触媒を含有する触媒含有高分子液晶を作成する。また、該触媒含有高分子液晶を触媒系として光学活性高分子を合成する。

請求項（抜粋）：

光学活性高分子液晶中に反応触媒を含有することを特徴とする触媒含有高分子液晶。

IPC (2件)：

C08L101/12 ,  B01J 27/128

FI (2件)：

C08L101/12 ,  B01J 27/128 M

Fターム (9件)：

4G069AA08 ,  4G069AA15 ,  4G069BB08B ,  4G069BC66B ,  4G069BD12B ,  4G069CD10 ,  4J002AB011 ,  4J002CM021 ,  4J002DE196

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-273648
  
• 高分子液晶の精製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-358313   出願人：出光興産株式会社