特許

J-GLOBAL ID：200903005946859572

フォトレジスト塗布方法およびその装置

発明者： 竹内 典子 ,  寺島 悦三 ,  中村 考雄 ,  景山 憲二 ,  大城 研二 ,  森 清人
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  関東化学株式会社
代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-016411
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213608
出願日： 1996年02月01日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】 再利用できるフォトレジストの濃度調整を簡単にし、フォトレジストの再利用の迅速化を図る。【解決手段】 フォトレジスト塗布の際にフォトレジスト廃液が排出され、装置内の洗浄の際に洗浄液廃液が排出されるフォトレジスト塗布装置において、フォトレジスト廃液と洗浄液廃液をそれぞれ分離させて回収する手段と、回収されたフォトレジスト廃液からフォトレジストを再生する手段と、再生されたフォトレジストをフォトレジスト塗布工程において用いられるフォトレジストとして再利用する手段と、回収された洗浄液廃液から洗浄液を再生する手段と、再生された洗浄液を洗浄工程において用いられる洗浄液として再利用する手段とを備える。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト塗布の際にフォトレジスト廃液が排出され、装置内の洗浄の際に洗浄液廃液が排出されるフォトレジスト塗布方法において、フォトレジストの溶媒と同じ溶剤を使用して洗浄を行うとともに、フォトレジスト廃液と洗浄液廃液をそれぞれ分離させて回収する工程と、回収されたフォトレジスト廃液からフォトレジストを再生する工程と、再生されたフォトレジストをフォトレジスト塗布工程において用いられるフォトレジストとして再利用する工程と、回収された洗浄液廃液から洗浄液を再生する工程と、再生された洗浄液を洗浄工程において用いられる洗浄液として再利用する工程と、を備えることを特徴とするフォトレジスト塗布方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501

FI (2件)：

H01L 21/30 564 Z ,  G03F 7/16 501