パターン検査方法及びパターン検査装置並びにパターン検査用プログラム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-107231
公開番号（公開出願番号）：特開2006-284471
出願日： 2005年04月04日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：

【課題】照明ムラがあっても欠陥の形状や外形寸法を正しく且つ高速に計測できるパターン検査方法を得る。【解決手段】半導体回路等の本パターン検査方法は、検査対象の画像を微分処理して微分画像を作成する第1ステップS1と、微分画像と予め良品から作成しておいたマスク画像とを比較して差分画像を作成する第2ステップS2と、差分画像の輝度値が所定値を超えた場合に、その所定値を超えた輝度を有する画素を含む小領域を計算する第3ステップS3と、検査対象の画像から小領域において画像特徴量を計算する第4ステップS4と、画像特徴量の値から上記小領域の良否を判定する第5ステップS5とを備える。本パターン検査方法に於ける画像処理はパソコンを用いてソフトウエアによって処理可能である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

照明手段と撮像手段とを用いて得られた検査対象の画像を検査する方法において、前記検査対象の画像を微分処理して微分画像を作成する第1ステップと、前記微分画像と予め良品から作成しておいたマスク画像とを比較して差分画像を作成する第2ステップと、前記差分画像の輝度値が所定値を超えた場合に、その所定値を超えた輝度を有する画素を含む小領域を計算する第3ステップと、前記検査対象の画像から前記小領域において画像特徴量を計算する第4ステップと、前記画像特徴量の値から前記小領域の良否を判定する第5ステップとを備えることを特徴とする、パターン検査方法。

IPC (4件)：

G01N 21/956 , G06T 1/00 , H01L 21/66 , G01B 11/24

FI (4件)：

G01N21/956 A , G06T1/00 305A , H01L21/66 J , G01B11/24 F

Fターム (67件)：

2F065AA49 , 2F065AA54 , 2F065BB02 , 2F065FF04 , 2F065HH00 , 2F065HH12 , 2F065HH13 , 2F065HH15 , 2F065JJ19 , 2F065JJ26 , 2F065PP12 , 2F065QQ08 , 2F065QQ13 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065RR08 , 2F065TT03 , 2G051AA51 , 2G051AA73 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051AC02 , 2G051BA01 , 2G051BB03 , 2G051BB05 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CB02 , 2G051DA07 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EA23 , 2G051EB01 , 2G051EB09 , 2G051ED01 , 2G051ED15 , 2G051ED21 , 4M106CA39 , 4M106DB04 , 4M106DB19 , 4M106DJ13 , 4M106DJ14 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ21 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CC01 , 5B057CC03 , 5B057CE09 , 5B057CH11 , 5B057CH18 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC22 , 5B057DC33 , 5B057DC36

引用特許：

出願人引用 (1件)

パターン検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-222567 出願人：ソニー株式会社

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