特許

J-GLOBAL ID：200903005962489262

成膜方法

発明者： 齋藤 康行 ,  石倉 淳理
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 敬介 ,  山口 芳広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-064919
公開番号（公開出願番号）：特開2004-267964
出願日： 2003年03月11日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】各種デバイス製造時の、エアロゾルを用いて基体表面等に複数の粒子からなる膜を形成する成膜工程において、一定粒子濃度であるエアロゾルを効率的に生成し、良質な膜を効率的に得られる成膜方法及び成膜装置を提供すること。【解決手段】粒子の分散液を作成し、該分散液を液体供給手段(17)を用いて微小液滴として第2チャンバー(9)内空間中に供給してから、分散媒を気化させることにより、一定粒子濃度のエアロゾルを効率的に形成することができ、圧力調整手段(3,10,13)を用いて与えられた第1チャンバー(5)と第2チャンバー(9)との間の圧力差によりエアロゾルを搬送管(4)を通して第1チャンバー(5)内に配置された基体(7)上に噴射することで、基体上に良質な膜を効率的に形成することができる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

(A)第1のチャンバー内に基体を配置する工程と、 (B)前記第1のチャンバー内の圧力を、該第1のチャンバーと搬送管を介して接続された第2のチャンバー内の圧力よりも低い状態に調整する工程と、 (C)複数の粒子と該複数の粒子を分散させる分散媒とを含む液体をチャンバー内に供給する工程と、 (D)前記第2のチャンバー内に供給された液体中に含まれる分散媒を気化させると共に、前記第2のチャンバー内に供給された液体中に含まれる複数の粒子を、前記搬送管を通して前記第1のチャンバー内に搬送し、前記搬送管の先端から前記基体に向けて噴射する工程と、 を有することを特徴とする成膜方法。

IPC (4件)：

B05D1/02 ,  B01J19/00 ,  B05D3/12 ,  C23C24/08

FI (5件)：

B05D1/02 Z ,  B01J19/00 K ,  B05D3/12 A ,  C23C24/08 B ,  C23C24/08 C

Fターム (32件)：

4D075AA02 ,  4D075AA34 ,  4D075BB16X ,  4D075BB22X ,  4D075BB56Y ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075EA02 ,  4D075EA10 ,  4D075EB01 ,  4D075EB05 ,  4G075AA24 ,  4G075BB02 ,  4G075BC10 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  4K044AA12 ,  4K044AA13 ,  4K044BA08 ,  4K044BA13 ,  4K044BA18 ,  4K044BB01 ,  4K044BB11 ,  4K044CA24 ,  4K044CA29 ,  4K044CA53