特許

J-GLOBAL ID：200903005964597879

排ガス浄化用還元剤噴射器

発明者： 工藤 修一
出願人/特許権者： 株式会社ニッキ
代理人 (3件)： 橋本 克彦 ,  橋本 京子 ,  松下 浩二郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-119237
公開番号（公開出願番号）：特開2004-324502
出願日： 2003年04月24日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】排ガス通路に還元剤を噴射して脱硝反応器により排ガス中のNOXを分解する排ガス浄化装置に用いられる還元剤の噴射器について、高温の還元剤に曝されても熱的障害が生じないようにするとともに、噴射量制御のための電磁弁の駆動力を最小限とし、更に、還元剤の排ガス通路内での確実な気化を実現する。【解決手段】噴射孔21と弁体19とを具え高圧・高温の噴射用還元剤が導入される噴射部20Aと、弁体19を駆動させる圧力室38aとこれを制御する電磁弁41Aとを具え高圧・常温の冷却用還元剤が導入される駆動部30Aとからなり、駆動部30Aが冷却用還元剤により冷却されるとともに、電磁弁41Aが圧力室38aの出口を開閉することにより冷却用還元剤の圧力を利用して噴射孔21を開閉させて、還元剤の噴射を精密に制御できるものとした。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

排ガス発生機械・設備から延び脱硝反応器が設置された排ガス通路に高圧・高温の還元剤を噴射して前記脱硝反応器の還元触媒に前記還元剤を気化状態で接触させることにより排ガス中のNOXを分解する排ガス浄化装置に用いられる還元剤の噴射器であって、 噴射孔および弁体と前記高圧・高温の還元剤を前記噴射孔に導入する噴射用還元剤通路とを有する噴射部と、高圧・常温の還元剤を通過させる冷却用還元剤通路およびその途中に設けられた弁体駆動用の圧力室とこの圧力室の還元剤圧力を制御する電磁弁とを有する駆動部とからなり、 前記駆動部は前記高圧・常温の還元剤が通過することにより冷却され、前記電磁弁は排ガス中のNOX濃度に応じて電子式制御装置が発する駆動信号により前記圧力室の出口を開閉し、開放時に前記圧力室の圧力が低下することによって前記弁体が前記噴射孔を開いて前記高温・高圧の還元剤を噴射させ、閉止時に前記圧力室の圧力が上昇することによって前記弁体が前記噴射孔を閉じるものとされている、 ことを特徴とする排ガス浄化用還元剤噴射器。

IPC (6件)：

F01N3/08 ,  B01D53/86 ,  B01D53/94 ,  F01N3/00 ,  F01N3/24 ,  F01N3/36

FI (7件)：

F01N3/08 H ,  F01N3/00 F ,  F01N3/24 L ,  F01N3/36 A ,  F01N3/36 B ,  B01D53/36 101A ,  B01D53/36

Fターム (26件)：

3G091AA18 ,  3G091AA28 ,  3G091AB04 ,  3G091BA03 ,  3G091BA04 ,  3G091BA07 ,  3G091BA14 ,  3G091BA21 ,  3G091CA05 ,  3G091CA13 ,  3G091CA18 ,  3G091CB08 ,  3G091DB10 ,  3G091EA17 ,  3G091EA33 ,  3G091HA36 ,  3G091HA37 ,  3G091HA42 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AC03 ,  4D048CC52 ,  4D048CC61 ,  4D048DA01 ,  4D048DA08 ,  4D048DA10