特許
J-GLOBAL ID：200903005975050995
パタンデータの作成方法および付加パタン付きフォトマスクの描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-327819
公開番号（公開出願番号）：特開2001-147514
出願日： 1999年11月18日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：
【要約】【課題】 フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた、付加パタン付きフォトマスクの描画方法で、ポジレジストを用い、パタンデータの無い部分に電子ビームまたはレーザ光を照射して描画する、通常の描画方式に適用できる描画方法を提供する。そして、これに用いられるパタンデータの作成方法を提供する。【解決手段】フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた、付加パタン付きフォトマスクの描画方法で、ポジレジストを用い、パタンデータの無い部分に電子ビームまたはレーザ光を照射して描画する、描画方式に適用できる描画方法を提供しようとするものであり、該描画方法に用いられる描画データを作成するためのデータ処理方法で、配線層だけでなくポリリシリコン層等他の処理層にも対応でき、多大な処理時間を必要としないパタンデータの作成方法を提供する。
請求項（抜粋）：
フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた付加パタン付きフォトマスク用の、描画データを作成するためのデータ処理方法であって、電子回路のレイアウト設計の際、あるいはフォトマスク製造データ作成の際に、付加パタンを配置せずに既に設計の完了した設計パタンデータDPの各パタンdpと、作成する付加パタン用データDTの各パタンdtとの干渉を避けるための、各パタンdpと各パタンdtとのデータ領域における位置の最小間隔をMIとしたときに、(a)設計パタンデータDPに対し、サイジング図形処理を施し、各パタンdp部を前記最小間隔MI分オーバーサイズした付加パタン無領域NAを有するパタンデータDP1を作成し、更に、設計パタンデータDPとパタンデータDP1に対し、論理NOT図形処理を採り、前記付加パタン無領域NAから前記設計パタンデータDPの各パタンdp部を差し引いた反転パタンmpを有する反転メインパタンデータMPを作成する反転メインパタンデータMP生成ステップと、(b)設計パタンデータ領域の全体領域aaを表す全体領域データAAと、パタンデータDP1に対し、論理NOT図形処理を採り、全体領域aaから、付加パタン無領域NAを差し引いた基本付加パタン領域daを作成する基本付加パタン領域データDAを生成する生成ステップと、(c)付加パタンを配置してはいけない配置禁止領域を決め、基本付加パタン領域データDAの基本付加パタン領域daから配置禁止領域を差し引いた、付加パタン領域faを有する付加パタン領域データFA作成する、付加パタン領域データ生成ステップと、(d)設計パタンデータ領域に対応する領域全体に対して、付加パタンの基本となる図形dtを規則的に配置した、付加パタン用データDTを発生する付加パタン用データ作成ステップと、(e)付加パタン領域データFAと付加パタン用データDTに対し、論理NOT図形処理を施し、付加パタン領域faから付加パタン用データDTの各パタンを差し引いて、反転付加パタンデータFPを作成する反転付加パタンデータ生成ステップとを有することを特徴とするパタンデータの作成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, G06F 15/60 658 M
2H095BA06
, 2H095BA08
, 2H095BB02
, 2H095BB08
, 2H095BB10
, 2H095BC01
, 5B046AA08
, 5B046BA04
