特許
J-GLOBAL ID：200903005979384103
フラクタル構造体およびその形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉浦 正知
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001004252
公開番号（公開出願番号）：WO2001-091201
出願日： 2001年05月22日
公開日（公表日）： 2001年11月29日
要約：
【要約】自己相似性を特徴付けるフラクタル次元が互いに異なる複数の領域を持つようにフラクタル構造体を構成する。特に、星状フラクタル構造体においては、フラクタル次元の高い核の周辺にフラクタル次元の低い領域を形成する。フラクタル構造体全体に占めるこれらの領域の体積の比率を調整することにより、そのフラクタル構造体において発現する相転移の性質、例えばモット転移、強磁性相転移の磁化曲線、電子状態における量子カオスなどを制御する。制御性を高めるためには、核のフラクタル次元を2.7より大きくし、核の周辺の領域のフラクタル次元を2.3より小さくする。
請求項（抜粋）：
自己相似性を特徴付けるフラクタル次元が互いに異なる複数の領域を有する ことを特徴とするフラクタル構造体。
IPC (1件)：
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